<IHI製 真空熱処理炉 VQシリーズ>
IHI製真空熱処理炉 VQシリーズ

【用途】

焼き入れ、焼き戻し、溶体化処理、時効処理、磁性処理、焼きなまし、ろう付

【基本性能】

操業温度常用(最高):対流加熱仕様 150℃〜1280℃(1320℃)、真空加熱仕様 540℃〜1280℃(1320℃)

到達圧力:7mPaより高真空

排気時間:20分以内(大気圧から15mPa迄、脱ガス、空炉、常温)

加熱時間:常温から1150℃迄35分以内(空炉、真空)

冷却時間:1150℃から150℃迄12分以内(空炉、N2ガス、260kPa、ガス冷却)

    :1150℃から150℃迄5分以内(空炉、N2ガス、600kPa、ガス冷却)



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担当 藤澤賢輔